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纳米硅薄膜材料在场发射压力传感器研制中的应用
【摘要】 设计研制了一种基于量子隧道效应机制的场发射压力传感器原型器件,用CVD技术制备了粒径为3～9 nm,厚度为30～40 nm的纳米硅薄膜,并同时把这种低维材料引入到传感器阴极发射尖锥的制作,形成纳米硅薄膜为实体的发射体结构.用HREM及TED分析了纳米硅态的显微特性,用场发射扫描电子显微镜SEM分析了发射体及阵列的微观结构,用HP4145B晶体管参数测试仪考察了传感器件的场发射特性.实验结果表明,当外加电场为5.6×103V/m时,器件有效区域发射电流密度可达53.5A/m2.
【基金】 国防科技重点实验室基金试点项目(批准号:00JS97.2.3.BQ0108)
- 【文献出处】 中国科学E辑:技术科学 ,Science in China,Ser.E , 编辑部邮箱 ,2003年03期
- 【分类号】TP212.1
- 【被引频次】6
- 【下载频次】223