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半导体制造中的电子显微分析

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【作者】 谢锋； 刘剑霜； 陈一； 胡刚；

【机构】 复旦大学材料系； 复旦大学材料系 200433； 200433；

【摘要】 集成电路的特征尺寸越来越小,电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)在实际分析中的特长与局限,主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题,讨论如何将两种分析技术有机地结合起来,扬长避短,取得最佳效果。

【关键词】 半导体制造； 显微分析； 仪器分辨率； 微电子制造； 透射电子显微镜； 深亚微米； 光学显微镜； 场发射； 衬度； 位错芯；
  • 【文献出处】 集成电路应用 ,Applications of IC , 编辑部邮箱 ,2003年02期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】2
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