纳米SiO₂粉体的制备与研究

【摘要】 纳米 SiO₂粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂（非离子表面活性剂）和分散剂,在适宜的 pH 值和温度下,采用化学沉淀法合成。要得到性能优良的纳米 SiO2粉体,最佳工艺条件为:温度20～40℃,pH 6,反应液质量浓度 P1=20g/L,ρ2=1.20g/L,反应时间15min。结果表明:制备的纳米 SiO₂粒径为30～50nm,比表面积大、分散性好、质量优良、可达到产业化的生产。更多还原