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脉冲约束刻蚀微加工理论探讨  
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【英文篇名】 Theoretical Study on the Electrochemical Micromachining by Pulse Confined Etching
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【作者】 孙建军;
【英文作者】 SUN Jian-jun (College of Physics and Information Engineering; Henan Normal University; Xinxiang; 453002; China);
【作者单位】 河南师范大学物理与信息工程学院 河南新乡; 453002;
【文献出处】 河南师范大学学报(自然科学版) , Journal of Henan Normal University(Natural Science), 编辑部邮箱 2003年 02期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 电化学; 微加工; 脉冲; 约束;
【英文关键词】 electrochemistry; micromachining; pulse; confined etching;
【摘要】 本文提出了脉冲约束刻蚀电化学微加工方法 ,从半无限和有限扩散脉冲约束刻蚀两个模型出发 ,从理论上探讨了它的可行性
【英文摘要】 An electrochemical micromachining method was supposed based on the pulse confined etchant layer. Its feasibility was discussed through two models of semi-infinit and finit pulse confined etchant layer.
【基金】 国家自然科学基金 ( 60 0 760 0 2 )
【分类号】 TN305.7
【正文快照】 电化学微加工技术在当代科学技术的发展中起着非常重要的作用 .如计算机大容量硬盘的数据读写磁头的制作和微机电系统 (MEMS)中的LIGA (德文LithografieGalvanoformungAbformung的缩写 )工艺等都利用了电化学微加工技术[1] . 1992年 ,我国电化学家田昭武院士提出了约束刻蚀剂层

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