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紫外光固化光敏齐聚物体系的研究进展

Progress on UV-Curing Photosensitive Oligomer.

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【作者】 周钢陈建山奚海吴宇雄

【Author】 ZHOU Gang,et al.(Polymer Material and Engineering Group, Central-South Forestry University, Zhuzhou, Hunan,412006,China)

【机构】 中南林学院高分子材料与工程教研室中南林学院高分子材料与工程教研室 湖南株洲412006湖南株洲412006

【摘要】 介绍了近年来国内外紫外光固化体系的研究进展。重点对第二代光敏齐聚物 -丙烯酸酯体系的制备过程、组分及对性能影响进行介绍 ,探讨了光固化体系氧干扰、星形超分枝聚合物等问题。

【Abstract】 Recent progress on UV-curing photosensitive oligomer was reviewed. The emphasis was put on the components and preparation of second phase photosensitive oligomer-acrylic resin and their effect on the resin. The oxidization, high-grafting star polymerization of photocuring resin were also discussed.

  • 【文献出处】 精细化工中间体 ,Fine Chemical Intermediates , 编辑部邮箱 ,2003年01期
  • 【分类号】TQ633
  • 【被引频次】42
  • 【下载频次】415
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