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248nm深紫外光刻胶
EVOLUTION AND PROGRESS OF DEEP UV 248 nm PHOTORESISTS
【摘要】 本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步.
【Abstract】 Deep UV lithography operating at 248 nm with use of chemical amplification resists has finally become a production technology.This paper describes the evolution and progress of the deep UV 248 nm photoresists from aspects of birth of chemical amplification technology,evolution of deep UV 248 nm resists in matrix resins and PAG,dissolution inhibitor,processing problems and solutions of them.
【关键词】 化学增幅；
KrF激光；
深紫外光刻；
248nm光刻胶；
主体树脂；
酸催化；
光致产酸剂；
【Key words】 chemical amplification； KrF excimer laser； deep UV lithography； 248 nm photoresists； matrix resins； acid-catalysis； photoacid generator；
【Key words】 chemical amplification； KrF excimer laser； deep UV lithography； 248 nm photoresists； matrix resins； acid-catalysis； photoacid generator；
- 【文献出处】 感光科学与光化学 ,Photographic Science and Photochemistry , 编辑部邮箱 ,2003年05期
- 【分类号】TQ577
- 【被引频次】27
- 【下载频次】931