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波导材料SiO2的火焰水解生长及表征
Silica Waveguide Material Fabricated by FHD and Its Characterization
【摘要】 采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20μm的波导下包层材料SiO2膜。利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对其进行了测试分析,得到了空气中1400℃退火后SiO2的均方根粗糙度为0.184nm,原子比为1∶2.183,在1.55μm处的折射率为1.4564。
【Abstract】 SiO2 films about 20 μm were fabricated on Si substrates by flame hydrolysis deposition(FHD) as buffer layer for waveguides.The products annealed to 1 400 ℃ were characterized by atomic force microscopy(AFM), Xray photoelectron spectrum(XPS) and variable angle spectroscopic ellipsometry(VASE).The rootmeansquare surface roughness is 0.184 nm,the ratio of Si:O is 1∶2.183,and the refractive index at 1.55 μm is 1.456 4.
【关键词】 二氧化硅；
火焰水解法；
表面特性；
光学常数；
【Key words】 SiO2； flame hydrolysis deposition； surface characteristic； optical constant；
【Key words】 SiO2； flame hydrolysis deposition； surface characteristic； optical constant；
【基金】 国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000036602)
- 【文献出处】 光电子·激光 ,Journal of Optoelectronics.laser , 编辑部邮箱 ,2003年03期
- 【分类号】TN252
- 【被引频次】6
- 【下载频次】78