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光电双基区晶体管(PDUBAT)的器件模型

A Device Model of Photoelectric Dual Base Transistor

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【作者】 张生才郑云光郭辉李树荣张世林郭维廉胡泽军夏克军

【Author】 ZHANG Sheng cai,ZHENG Yun guang,GUO Hui,LI Shu rong,ZHANG Shi lin,GUO Wei lian,HU Ze jun,XIA Ke jun (College of Electronic Information Engineering,Tianjin University,Tianjin 300072,China)

【机构】 天津大学电子信息工程学院天津大学电子信息工程学院 天津300072天津300072天津300072

【摘要】 本文在考虑了晶体管的小注入效应和大注入效应以及基区宽变效应等因素后 ,首次用近似和简化的数学表示式和相应的等效电路 ,描述了光电双基区晶体管 (PDUBAT)负阻形成的机理并使负阻区和谷值区的理论计算和实验结果一致性很好

【Abstract】 By adopting the approximate and simplified mathematical expressions and the relative equivalent circuit for the first time in consideration of the low injection effect,the high injection effect and the early effect etc.of the transistor,the mechanism for the origin of the negative resistance in photoelectric dual base transistor (PDUBAT) has been described.The theoretical calculation is well consistent with experimental results in the negative resistance region and the valley region.

【基金】 天津市自然科学基金资助项目 (No.98360 1 4 1 1 )
  • 【文献出处】 电子学报 ,Acta Electronica Sinica , 编辑部邮箱 ,2003年05期
  • 【分类号】TN364.3
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】44
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