高分辨率常温压印光刻工艺研究-中国学术期刊网络出版总库

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高分辨率常温压印光刻工艺研究

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【英文篇名】	Study on the ultra-high resolution imprint lithography
【下载频次】	★★★★☆
【作者】	秦旭光; 李涤尘; 李寒松; 丁玉成; 卢秉恒;
【英文作者】	Qin Xuguang;
【作者单位】	西安交通大学先进制造技术研究所; 西安交通大学先进制造技术研究所陕西西安; 陕西西安;
【文献出处】	电加工与模具 , Electromachining & Mould, 编辑部邮箱 2003年 03期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】	集成电路; 热压印光刻; 冷压印光刻; 复型;
【英文关键词】	integrated circuit; hot embossing lithography; room temperature imprint lithography; replication;
【摘要】	压印光刻技术将传统的模具复型原理应用到微观制造领域 ,是一种低成本高效率的集成电路制造技术。国外压印光刻工艺主要为热压印。针对热压印光刻工艺中因热变形而导致精度丧失的问题 ,提出了冷压印光刻。冷压印光刻的复型分辨率和复型质量高 ,解决了热压印光刻中的诸多难题 ,实现了 0 .1μm特征尺寸结构的复型
【英文摘要】	Imprint lithography used in micro manufacturing is a low-cost and high-efficiency IC manufacturing technology. Aiming at the lost accuracy happened in HEL(hot embossing lithography) because of thermal distortion ,room-temperature imprint lithography is proposed. The room temperature imprint lithography has overcome many difficulties appeared in HEL and has high resolution. As a result the replication of sub 0.1μm structure is realized.
【基金】	国家自然科学基金资助项目 ( 5 0 2 75 118); 国家 863计划重点项目 ( 2 0 0 2AA42 0 0 5 0 )
【分类号】	TN305.7
【正文快照】	随着集成电路技术的发展 ,传统光刻工艺遇到了越来越多的理论上和技术上的瓶颈。为了实现向特征尺寸为 0 .1μm的跨越 ,出现了新一代光刻技术(NextGenerationLithography) ,如电子束投影光刻(EBL)、X射线光刻 (XRL)、离子束投影光刻 (IBL)、极紫外光刻 (EUV)和压印光刻技术 (NI

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