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WLP用喷镀装置中的匀流板优化设计

The Diffuser’s Optimum Design in Fountain-Plating for Wafer Level Package

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【作者】 王水弟胡涛蔡坚贾松良

【Author】 WANG Shui-di ,HU Tao,CAI Jian,JIA Song-liang(Institute of Microelectronics,Tsinghua University,Beijing10084,China)

【机构】 清华大学微电子学研究所清华大学微电子学研究所 北京100084北京100084北京100084

【摘要】 喷镀式电镀已广泛应用于圆片级封装(WLP)中,电镀杯是喷镀装置中最关键的部件,杯中的匀流板又是影响电镀质量关键。对匀流板的形状和位置进行了计算机模拟和优化,并实际应用于喷镀装置中,取得了很好结果。

【Abstract】 The fountain-plating is widely used for plating in wafer level package(WLP).Plating cup is the key com ponent in the plating apparatus and the diffuser is the most important part in cup,which will greatly affect the quality.The simulation and optimization of solution flow in the cup by computational fluid dynamics(CFD)tool have been intro duced in this paper.The results have been successfully used for the machine design.

【关键词】 喷镀匀流板封装
【Key words】 Fountain-PlatingDiffuserPackage
  • 【文献出处】 电子工业专用设备 ,Equipment For Electronic Products Manufacturing , 编辑部邮箱 ,2003年04期
  • 【分类号】TQ153
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