玻璃基板化学镀工艺

【摘要】 1　前言近年来计算机等外部记录装置多数使用固定磁盘装置。磁盘上搭载的磁盘基板 ,过去是在非磁性铝板上化学镀非磁性的Ｎｉ Ｐ合金镀层 ,随着磁盘的高记录密度化和小型薄板化 ,希望采用容易小型薄板化且可获得高平滑性的玻璃基板 ,然而玻璃基板上难以形成附着性和平滑性十分优良的化学镀Ｎｉ Ｐ合金镀层。为了改善镀层附着性和平滑性 ,采用ＳｎＣｌ2 溶液敏化处理 ,但是敏化液中Ｓｎ2 + 容易氧化成Ｓｎ4 + ,导致敏化液混浊 ,降低敏化液使用寿命 ,还由于锡盐的影响 ,容易发生镀层不均、镀层凹痕或者无镀层析出等缺陷。鉴于上述状况 ,本文就改善玻璃制品化学镀工艺加以叙述。2　工艺2 .1　工艺流程脱脂、蚀更多还原