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新型PST铁电薄膜的制备及其电性能研究

A Review of Preparation Methods and Electrical Properties of New PST Thin Films

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【作者】 李元昕刘梅冬曾亦可姜胜林邓传益

【Author】 LI Yuanxin LIU Meidong ZENG Yike JIANG Shenglin DENG Chuanyi(Department of Electronic Science and Technology , Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China)

【机构】 华中科技大学电子科学与技术系华中科技大学电子科学与技术系 武汉 430074武汉 430074武汉 430074

【摘要】 PST铁电薄膜是一种具有优良铁电、热释电和介电等性能的铁电材料。该材料在红外探测器、红外焦平面阵列、热成像器件、非易失性铁电存储器和大容量电容器等方面具有广泛的应用。PST铁电薄膜的制备方法多种多样,各具优缺点,不同的制备工艺对薄膜的性能有影响。叙述了PST铁电薄膜的制备技术、电性能和在热释电红外探测器方面的应用。

【Abstract】 PST thin films are ferroelectric materials with many advantages such as excellent ferroelectric, pyroelectric and dielectric properties. They have a wide range of applications in pyroelectric infrared devices, uncooled infrared focal plane arrays, infrared thermal imaging devices, non-volatile ferroelectric RAM and large value capacitor. There are many methods for preparation of PST thin films, and each has its advantages and disadvantage . The properties of PST thin films depend on the preparation conditions . This paper reviews the preparation methods and electrical properties of PST thin films.

【基金】 国家自然科学基金重大研究计划(90201028);“863”计划新材料领域资助项目(2002AA325080)
  • 【分类号】TB43
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