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离子束辅助薄膜沉积

Ion Beam Assisted Thin Film Deposition

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【作者】 张宇峰张溪文任兆杏韩高荣

【Author】 ZHANG Yufeng ZHANG Xiwen REN Zhaoxing HAN Gaorong( Silicon State Key Lab,Zhejiang University ,Hangzhou ,310027; Institute of Plasma Physics,Chinese Academy of Science,Hefei,230031)

【机构】 浙江大学硅材料国家重点实验室中国科学院等离子体物理研究所浙江大学硅材料国家重点实验室 杭州 310027杭州 310027合肥 230031杭州 310027

【摘要】 离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。

【Abstract】 Ion beam assisted deposition (IBAD) is a method of thin film deposition which can produce compact and uniform thin films at low temperatures. This paper reviews the current status of IBAD,describes some of its application fields introduces RF-ICP beam assisted electron beam evaporation and points out the prospect of IBAD technology.

【基金】 国家自然科学基金(No.60006003)
  • 【分类号】TB43
  • 【被引频次】31
  • 【下载频次】721
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