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离子束辅助薄膜沉积
Ion Beam Assisted Thin Film Deposition
【摘要】 离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
【Abstract】 Ion beam assisted deposition (IBAD) is a method of thin film deposition which can produce compact and uniform thin films at low temperatures. This paper reviews the current status of IBAD,describes some of its application fields introduces RF-ICP beam assisted electron beam evaporation and points out the prospect of IBAD technology.
【关键词】 离子束辅助沉积;
薄膜;
感应耦合等离子体;
【Key words】 ion beam assisted deposition; thin film; inductive coupling plasma;
【Key words】 ion beam assisted deposition; thin film; inductive coupling plasma;
【基金】 国家自然科学基金(No.60006003)
- 【文献出处】 材料导报 ,Materials Review , 编辑部邮箱 ,2003年11期
- 【分类号】TB43
- 【被引频次】31
- 【下载频次】721