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半导体ZnO晶体生长及其性能研究进展

Progress in Research on Crystal Growth and Properties of Semiconductor ZnO

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【作者】 巩锋臧竞存杨敏飞

【Author】 GONG Feng ZANG Jingcun YANG Mingfei(School of Materials Science and Engineering,Beijing Polytechnic University,Beijing 100022)

【机构】 北京工业大学材料科学与工程学院北京工业大学材料科学与工程学院 北京 100022北京 100022北京 100022

【摘要】 ZnO晶体是直接宽带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,激子束缚能为60meV。其禁带宽度对应紫外光的波长,有望开发蓝绿光、蓝光、紫外光等多种发光器件。对ZnO晶体的生长方法及研究进展做了简要的叙述。

【Abstract】 Since ZnO is a direct semiconductor with a wide band gap energy of 3.37eV and a excition binding energy of 60meV at room temperature.it has potential for visible or ultraviolet light emission.This paper briefly describes growth methods and research progress in semiconductor ZnO crystal materials.

【基金】 北京市教委资助项目
  • 【分类号】TN304
  • 【被引频次】22
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