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压阻式硅微加速度计的研制

Development of piezoresistive silicon-micro-accelerometer

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【作者】 张精华田雷迟晓珠王伟侯占民吴亚林

【Author】 ZHANG Jing-hua, TIAN Lei, CHI Xiao-zhu, WANG Wei, HOU Zhan-min, WU Ya-lin (The 49th Research Institute of China Electronics Technology Group corporation, Harbin 150001,China)

【机构】 中国电子科技集团公司第四十九研究所中国电子科技集团公司第四十九研究所 黑龙江哈尔滨150001黑龙江哈尔滨150001黑龙江哈尔滨150001

【摘要】 介绍压阻式硅微加速度计的结构设计。采用等离子体刻蚀技术制作成硅微加速度计。该技术具有腐蚀深宽比高、掩模选择性好的特点,适用于微机械器件的制作。通过测试,加速度计的非线性达到0.2%。讨论了影响加速度计灵敏度的结构因素和工艺因素。

【Abstract】 Structure design of piezoresistive silicon-micro-accelerometer is introduced. Silicon-micro-accelerometer is fabricated by plasma etch technology. The characters of the technology are high aspect ratio and very high mask selectivities. The technology is applied to micro-machine fabrication. Through testing, non-linearity of the accelerometer is 0.2%. Structure factor and technology factor effecting sensitivity of the accelerometer are discussed.

  • 【文献出处】 传感器技术 ,Journal of Transducer Technology , 编辑部邮箱 ,2003年12期
  • 【分类号】TH824.4
  • 【被引频次】9
  • 【下载频次】384
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