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SOI MOSFET的失真行为(英文)

Distortion Behavior for SOI MOSFET

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【作者】 张国艳黄如张兴王阳元

【Author】 Zhang Guoyan,Huang Ru,Zhang Xing and Wang Yangyuan(Institute of Microelectronics,Peking University,Beijing 100871,China)

【机构】 北京大学微电子学研究所北京大学微电子学研究所 北京100871北京100871北京100871

【摘要】 采用幂级数方法对基于全耗尽 (FD)SOIMOSFET和凹陷 (RC)沟道SOIMOSFET的失真行为进行了研究 ,发现随着沟道长度的减小失真行为变坏 ,且RCSOI器件较FD器件具有更好的失真行为 .同时 ,从实验数据可以看出 ,不理想的体接触会由于体分布电阻的增加而使失真行为变坏 .该结果可以为低失真混合信号集成系统的设计提高指导方向

【Abstract】 Distortion analysis of SOI MOS transistor is presented.By the power series method,the distortion behaviors of FD (fully depleted) and RC (recessed channel) SOI MOS transistor configurations are investigated.It is shown that the distortion figures deteriorate with the scaling down of channel length,and the RC SOI device shows better distortion performance than the FD SOI device.At the same time,the experimental data show that the ineffective body contact can lead to an increase of the harmonic amplitude due to the bulk resistance.The presented results give an intuitive knowledge for the design of low distortion mixed signal integrated system.

【关键词】 失真行为幂级数SOI MOSFET
【Key words】 distortion behaviorpower series methodSOI MOSFET
【基金】 国家重点基础研究发展规划 (No .G2 0 0 0 0 3 65 0 1);国家自然科学基金资助项目~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2003年08期
  • 【分类号】TN43
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