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二氧化锡溅射工艺研究

Study on sputtering process of tin oxide

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【作者】 冯海玉黄元庆冯勇建

【Author】 FENG Hai yu 1,HUANG Yuan qing 1,FENG Yong jian 2 (1. Department of Mechanical & Electronic Engineering,Xiamen University,Xiamen 361005,China; 2. Pen Tung Sah MEMS Research Center of Xiamen University,Xiamen 361005,China)

【机构】 厦门大学机电工程系厦门大学萨本栋微机电研究中心 福建厦门361005福建厦门361005福建厦门361005

【摘要】 SnO2 是最早使用也是目前使用最广泛的一种气敏材料 ,使用该材料设计制作的气敏传感器具有许多优点。在简要介绍溅射镀膜的成膜过程和特点的基础上 ,着重介绍了SnO2 膜的制备流程 ,分析了功率和温度变化对成膜质量的影响

【Abstract】 SnO 2 is the one of gas sensitivity materials that are used the earliest and the most widely, gas sensitivity sensors made of this material have many advantages. Based on the simple introduction of the course of sputtering film plating and characteristic, the preparation flow is introduced in detail, the effects of power or temperature changing on the film quality are analyzed.

【关键词】 SnO2膜溅射功率基片温度
【Key words】 SnO 2 filmsputtering powersubstrate temperature
  • 【文献出处】 微纳电子技术 ,Micronanoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2003年Z1期
  • 【分类号】TN304.05
  • 【被引频次】4
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