节点文献

接近式光刻的计算机模拟研究

Study on computer simulation of proximity lithography

推荐 CAJ下载
PDF下载
不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【Author】 TIAN Xue hong 1,LIU Gang 1,TIAN Yang chao 1, ZHANG Xin yi 2,ZHANG Peng 1 (1 National Synchrotron Radiation Laboratory,University of Science and Technology of China,Hefei 230029,China; 2 Synchrotron Radiation Research Center,Fudan University,Shanghai 200433,China)

【机构】中国科学技术大学国家同步辐射实验室；复旦大学同步辐射研究中心；中国科学技术大学国家同步辐射实验室安徽合肥230029；安徽合肥230029；上海200433；安徽合肥230029；

【摘要】分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源 ,并根据光的标量衍射理论 ,对菲涅耳近似模型进行了修正 ,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型 ;并对这两种模型的模拟结果进行了比较更多还原

【Abstract】 The computer simulation of proximity lithography is investigated in this paper. Comparing with the Fresnel diffraction model, a more accurate model is constructed depending on the scalar diffraction theory of light propagation. The differences of two models are given in this paper.更多还原

【关键词】接近式光刻；菲涅耳衍射；计算机模拟；
【Key words】 proximity lithography； Fresnel diffraction； computer simulation；

【基金】国家重点基础研究发展规划 (G19990 3 3 10 9)“973”资助项目

【文献出处】微纳电子技术 ,Micronanoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2003年Z1期

【分类号】TP391.9
【被引频次】11
【下载频次】158

知网节下载

节点文献中：

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络

节点文献