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RHEED优化MBE异质材料生长工艺

Optimized MBE heterostructure material growth technology by RHEED

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【作者】 谢自力; 邱凯; 尹志军;

【Author】 XIE Zi-li 1 ,QIU Kai 2 ,YIN Zhi-jun 2(1.The department of physics,Nanjing university,NanJing210016,China;2.NanJing Electronic Device Institute,NanJing210016,China)

【机构】 南京大学物理系; 南京电子器件研究所; 南京电子器件研究所 江苏南京210093; 江苏南京210016; 江苏南京210016;

【摘要】 利用高能电子衍射振荡研究MBE异质材料生长工艺。优化了AlGaAs/InGaAs/GaAs材料生长工艺。通过霍耳测量、X射线双晶衍射及二次离子质谱研究了利用该工艺生长的AlGaAs/InGaAs/GaAs双δ掺杂PHEMT结构材料,获得了较好的材料参数。利用该材料研制器件也有较好的结果。

【Abstract】 Using the RHEED to study the MBE heterostructure material growth technologies,the AlGaAs /InGaAs /GaAs material growth technologies are optimized.The AlGaAs /InGaAs /GaAs dou-bleδdoping PHEMT structure material is studied by Hall measurements,X rays double crystals diffraction and the second ion mass spectroscopy.Better material parameters are obtained.We al-so fabricated high quality PHEMT device with this material.The good properties of this material have been proved.

  • 【文献出处】 微纳电子技术 ,Micronanoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2003年10期
  • 【分类号】TN304.05
  • 【被引频次】5
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