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InP-HEMT中复合沟道的设计与生长

Design and growth of composite channel of InP HEMTs

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【作者】 邱凯张晓娟陈建炉

【Author】 QIU Kai, ZHANG Xiao-Juan, CHENG Jian-lu(Nanjing Electronic Devices Institute, Nanjing 210016, China)

【机构】 南京电子器件研究所南京电子器件研究所 江苏 南京 210016江苏 南京 210016江苏 南京 210016

【摘要】 设计并生长了带有复合沟道的InP基HEMT材料,该材料具有较高的二维电子气浓度和迁移率。在使用InxGa1-xAs/In0.53Ga0.47As复合沟道时,当In组分等于0.7时得到较好的沟道输运性能;在使用InAs复合沟道时,得到了二维电子气浓度为2.3×1012/cm2、室温迁移率高达13600 cm2/V·s的性能优良的HEMT材料。

【Abstract】 We have designed and grown InP-based HEMT with composite channel, the materials achieve higher 2DEG density and mobility. With the use of InxGa1-xAs/In0.53Ga0.47As composite channel, the better channel conductivity is achieved at x =0.7. With the use of InAs composite channel, the corresponding electron mobility is as high as 13600cm2/V·s with 2DEG density of 2.3×10~12/cm2.

【关键词】 高电子迁移率晶体管复合沟道磷化铟基
【Key words】 HEMTcomposite channelInP-based
  • 【文献出处】 微纳电子技术 ,Micronanoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2003年03期
  • 【分类号】TN405
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