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气相沉积法金刚石膜的合成机理

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【作者】 陈金身； 温绍国；

【机构】 郑州工业高等专科学校材料工程系； 郑州工业高等专科学校材料工程系 郑州 450007； 郑州 450007；

【摘要】 本文分别对同质和异质基材气相沉积法(CVD法)金刚石膜的形成机理进行论述,进而阐述了对金刚石膜合成的指导意义。

【关键词】 气相沉积； 金刚石膜； 基材；
  • 【文献出处】 郑州工业高等专科学校学报 ,Journal of Zhengzhou Polytechnic Institute , 编辑部邮箱 ,1998年01期
  • 【分类号】TB43
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