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新型微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置

NEW MICROWAVE PLASMA CVD SET UP FOR DIAMOND FILM GROWTH

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【作者】 吕庆敖邬钦崇隋毅峰匡靖安周永成俞世吉王守国

【Author】 Lu Qingao Wu Qinchong Sui Yifeng Kuang Jingan Zhou Yongcheng Yu Shiji Wang Shouguo (Institute of Plasma Physics,Academia Sinica,Hefei 230031)

【机构】 中国科学院等离子体物理研究所

【摘要】 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是制备金刚石薄膜的一种重要方法。为了获得金刚石薄膜的高速率大面积沉积,在国内首次研制成功了5kW带有石英真空窗的天线耦合水冷却不锈钢反应室式MPCVD装置。初步用该装置成功在硅基片上沉积得到了金刚石薄膜。

【Abstract】 Microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) is an important methed for diamond film preparation.5 kW antenna coupled MPCVD setup with a quartz vacuum window and water cooled stainless steel reaction chamber for higher depositing rate and lager depositing square was developed in China for the first time.Diamond films were prepared on silicon substrates with this set up.

  • 【文献出处】 真空与低温 ,VACUUM AND CRYOGENICS , 编辑部邮箱 ,1998年01期
  • 【分类号】TB43,TB79
  • 【被引频次】16
  • 【下载频次】372
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