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电子束蒸发 WO3-基气敏薄膜特性的研究

The Properties of WO 3 Based Gas Sensitive Films Prepared by Electron Beam Evaporation

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【作者】 丘思畴陈涛吴正华黄汉尧

【Author】 Qiu Sichou Prof.; Dept. of Electronics Sci.& Tech., HUST, Wuhan 430074, China. Chen Tao Wu Zhenghua Huang Hanyao

【机构】 华中理工大学电子科学与技术系

【摘要】 介绍了用电子束蒸发制作WO3气敏薄膜、溅射掺Au、膜的热处理工艺以及对H2S气体的敏感特性测量的初步结果.着重讨论了WO3膜的稳定化过程.

【Abstract】 The WO 3 based gas sensitive films were prepared by electron beam evaporation. The D.C. sputtering technology used to dope Au, the heat treatment of the films, and preliminary test results of the sensitivity characteristic of H 2S gas are described. The process of stabilization of the structure and the composition of films is discussed.

【基金】 湖北省自然科学基金
  • 【文献出处】 华中理工大学学报 ,JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1998年03期
  • 【分类号】TN304.21
  • 【被引频次】5
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