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全方位等离子体源离子注入技术的新发展

New Development of Plasma Source Ion Implantation Technology

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【作者】 武洪臣；

【机构】 北京航空工艺研究所；

【摘要】 简要介绍了全方位离子注入技术领域近几年国际上出现的几项新技术。

【Abstract】 The paper briefly described some new technologies of the plasma source ion implantation area in the world in recent year.

【关键词】 全方位离子注入； 离子回旋共振； 冷阴极放电； 等离子体开关；
【Key words】 Plasma source ion implantation Ion cyclotron resonance Cold cathod discharge Plasma switch；
  • 【分类号】TN305.3
  • 【被引频次】3
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