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准分子激光深层光刻蚀在 LIGA 工艺中的应用

The Application of Excimer Laser Deep Lithography in LIGA Process

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【作者】 沈蓓军； 王润文； 路敦武； 黄惠杰；

【Author】 SHEN Bei Jun,WANG Run Wen,LU Dun Wu,HUANG Hui Jie (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Academia Sinica ,Shanghai 210800)

【机构】 中国科学院上海光学精密机械研究所；

【摘要】 介绍了一种用于准分子激光深层光刻实验装置的设计，并将该装置成功地应用于ＬＩＧＡ工艺的深层光刻中，光刻实验表明准分子激光层光刻具有很大的实用意义。

【Abstract】 In the paper an excimer laser lithography apparatus is described.This apparatus is applied in deep lithography for LIGA process successfully.The lithography experiment result shows us that excimer lasr deep lithography is very pratical to LIGA process.

【关键词】 微机械； 微细加工； LIGA工艺； 光刻；
【Key words】 MEMS； Micromachining； LIGA process； Lithography；
【基金】 国家攀登计划资助课题
  • 【文献出处】 光学精密工程 ,OPTICS AND PRECISION ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,1998年02期
  • 【分类号】TN430.5,TN248
  • 【被引频次】10
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