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像差在临界角方法探焦技术中的影响
The Influence of Aberration on Measuring Sensitivity in Critical angle Method of Total Reflection for Focus Error Detection
【摘要】 分析了在临界角方法探焦技术中像差对测量灵敏度的影响。并给出了对两个显微物镜测量的结果。焦点探测试验精度为±１×１０－２μｍ。
【Abstract】 The influence of aberration on measuring sensitivity in critical angle method of total reflection for focus error detection was described.Measuring results of two microscope objectives were also given .The accuracy of measurement was ±1×10 -2 μm.
【关键词】 临界角方法；
焦点误差测量；
像差；
测量灵敏度；
【Key words】 Critical angle method； Focus error detection； Aberration； Measuring sensity；
【Key words】 Critical angle method； Focus error detection； Aberration； Measuring sensity；
- 【文献出处】 光学精密工程 ,OPTICS AND PRECISION ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,1998年01期
- 【分类号】O439
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