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用全反射X荧光技术分析釉药粉末

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【作者】 刘恺； 邬旭然； 郑素华； 田宇纮；

【机构】 烟台大学物理系!烟台264005；

【关键词】 荧光技术； 相对荧光强度； 痕量元素分析； 八十年代； 测定限； 内标溶液； 子谱； 电化学分析方法； 反射光； 校准曲线；
  • 【文献出处】 分析化学 ,Chinese Journal of Analytieal Chemistry , 编辑部邮箱 ,1998年03期
  • 【分类号】O657.3
  • 【被引频次】3
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