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提高半导体器件欧姆接触可靠性的扩散阻挡层及其应用

Diffusion Barrier Layer and Application in Improving Ohmic Contact Reliability of Semiconductor Devices

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【作者】 张万荣李志国郭伟玲孙英华穆甫臣程尧海陈建新沈光地

【Author】 Zhang Wanrong Li Zhiguo Guo Weiling Sun Yinghua

【机构】 北京工业大学

【摘要】 为了提高半导体器件欧姆接触的可靠性,一般要在金属化系统中加扩散阻挡层。文中介绍了扩散阻挡层的种类及其特性,并进行了比较和讨论。最后给出了在实际成功应用的例子。

【Abstract】 In order to improve ohmic contact reliability of semiconductor devices,the diffusion barrier layer is introduce into matallization system.In this paper,the diffusion barrier layer types and properties are presented and discussed,and the comparison among them are made also.The examples of the practically successful applications are given.

【基金】 北京市科技新星计划基金
  • 【文献出处】 电子工艺技术 ,Electronics Process Technology , 编辑部邮箱 ,1998年01期
  • 【分类号】TN305.93
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】278
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