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不同偏置电压下SiGe HBT Early电压的理论研究

Study on Early Voltage of SiGe HBT at Different Bias

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【作者】 钱伟金晓军张炯林惠旺陈培毅钱佩信

【Author】 Qian Wei, Jin Xiaojun, Zhang Jiong, Lin Huiwang, Chen Peiyi and Tsien Pei Hsin(Institute of Microelectronics, Tsinghua Uinversity, Beijing\ 100084)

【机构】 清华大学微电子所

【摘要】 Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGeHBT中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得到了在其它参数相同的情况下,器件的Early电压VA随基区中Ge含量和偏置电压VCE的变化规律,表明Early电压VA是随VCE和Ge含量的增加而增加的.这些结果对SiGeHBT在模拟集成电路中的设计和应用提供了指导.

【Abstract】 Abstract The effects of device bias V CE and Ge content in SiGe base on Early voltage of Si 1- x Ge x HBT are studied by numerical analysis without considering the influence of high level injection effect and impact ionization of carriers. With other parameters unchanged, Early voltage V A and current gain β of SiGe HBT increase with the increase of device bias V CE and Ge content in base. The results are useful for the design of SiGe HBT used in analog integrated circuit.

  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,1998年04期
  • 【分类号】TN431.1
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】51
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