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半导体基片上薄膜应力的测试装置

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【作者】 杨银堂付俊兴周端孙青

【机构】 西安电子科技大学

【摘要】 半导体基片上薄膜应力的测试装置*杨银堂付俊兴周端孙青(西安电子科技大学西安710071)0引言应力是表征薄膜特性的一个重要参数。半导体器件中薄膜材料的应力对于器件的性能和可靠性有着重要的影响[1],随着器件集成度的提高和新结构、新工艺的开发,这种影响...

  • 【文献出处】 仪器仪表学报 ,CHINESE JOURNAL OF SCIENTIFIC INSTRUMENT , 编辑部邮箱 ,1997年03期
  • 【分类号】TN307
  • 【被引频次】13
  • 【下载频次】258
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