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0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制

DEVELOPMENT OF RETICLE MANAGEMENT SYSTEM IN 0. 8～1μm WAFER STEPPER

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【作者】 陈伟明； 田桐； 王继红；

【Author】 Chen Weiming; Tian Tong ;Wan Jihong(Institute of Optics & Electronics,ChineseAcademy of Sciences,Chengdu 610209)

【机构】 中科院光电技术研究所!成都610209；

【摘要】 掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。

【Abstract】 The reticle management system can enhance the stability and utility of thewafer stepper. The system includes precise pneumatic unit,mechanical parts andelectronic /electric automatic control system based on 8098 chip microprocessor.

【关键词】 8098单片机； 分步重复投影光刻机； 掩模库；
【Key words】 wafer stepper； reticle management； 8098 chip microprocessor；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,MICROFABRICATION TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1997年01期
  • 【分类号】TN305
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