节点文献

高温氧化薄膜应力的测定

Analysis and Measurment of High Temperature Oxide Thin film Stress

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 杨于兴穆树人张榴凤

【Author】 Yang Yuxing Mu Shuren Zhang Liufeng (Public Laboratory of State Education Commission of P.R.China for High Temperature Materials and High Temperature Tests) 〖WT5FZ]

【机构】 国家教委高温材料及高温测试开放实验室

【摘要】 介绍一种高温氧化薄膜应力的测定技术,它能在一定高温氧化条件下原位测定氧化膜中的生长应力,在某一温度变化范围内原位测定氧化膜中的热应力.这种技术可在普通衍射仪上进行

【Abstract】 A measuring technique of high temperature oxide thin film stress is introduced. The growth stresses of the oxide thin film can be measured on the condition of the constant high temperature oxidation and the thermal stresses can be measured within the variations of a certain temperature. The measuring technique can be carried out with an ordinary diffractometer.

【关键词】 氧化薄膜生长应力热应力
【Key words】 oxide filmgrowth stressesthermal stresses
【基金】 国家自然科学基金,华东分析测试中心测试基金
  • 【文献出处】 上海交通大学学报 ,JOURNAL OF SHANGHAI JIAOTONG UNIVERSITY , 编辑部邮箱 ,1997年01期
  • 【分类号】TG115.23
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】150
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络