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自补图断裂度的研究

STUDY ON BREAKTIVITY OF THE SELF-COMPLEMENTARY GRAPH

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【作者】 李作安；

【Author】 Li Zuo’an(Dept. of Basic Courses Sichuafi Institute of Light Ind. & Chem. Tech. Zigong 643033)

【机构】 四川轻化工学院基础部!自贡； 643033；

【摘要】 主要把断裂度引入S·C·G的研究中，得到了S·C·G断裂度b（G）的上、下界：

【Abstract】 The majority and the minority of the breaktivity of S.C.G are studied.Fhe result is:

【关键词】 自补图（S·C·G）； 断裂度；
【Key words】 self-compl ementary graph； breaktivity；
  • 【文献出处】 四川轻化工学院学报 ,JOURNAL OF SICHUAN INSTITUTE OF LIGHT INDUSTRY AND CHEMICAL TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1997年03期
  • 【分类号】O157.5
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】16
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