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微透镜列阵的离子束刻蚀及衍射效率测量

Ion Beam Etching of Binary Optics Microlens Arrays and the Test of Diffraction Efficiency

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【作者】 赵光兴; 杨国光; 陈洪璆; 侯西云;

【Author】 Zhao Guangxing Yang Guoguang Chen Hongqiu Hou Xiyun (Zhejiang University, Hangzhou 310027)

【机构】 浙江大学光科系; 浙江大学光科系 杭州 310027; 杭州 310027;

【摘要】 采用Kaufman离子源刻蚀微透镜列阵并采用实时检测系统对刻蚀深度进行了控制。提出了测量微透镜列阵衍射效率的一种方法。对测量误差进行了讨论。

【Abstract】 A binary optics microlens array (BM) was fabricated by using ion beam etching. The real-time test of etching depth in vacuum enviroment was performed. A noval method of measuring the BM diffraction efficiency was presented.

  • 【文献出处】 中国激光 ,Chinese Journal of Lasers , 编辑部邮箱 ,1997年01期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】8
  • 【下载频次】91
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