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边缘相移掩模技术

Rim Phase Shifting Mask Technique

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【作者】陈宝钦；

【Author】 Feng Boru (State Key Laboratory of Optical Technology for Microfabrication,Institute of Optics & electronics, Chinese Academy of Sciences,Chengdu,610209) Chen Baoqin (Microelectronic Center,Chinese Academy of Sciences,Beijing,100029)

【机构】中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室；中国科学院微电子中心；

【摘要】论述了边缘相移掩模的原理、制作方法和工艺步骤，并给出了一些实验结果。更多还原

【Abstract】 The principle,making method,technology and procedure for the rim phase shifting mask are described.Some experimental results are given.更多还原

【关键词】光刻；相移掩模；边缘增强；
【Key words】 Photolithography； Phase shifting mask； Edge enhancement.；

【基金】国家自然科学基金,微细加工光学技术国家重点实验室基金

【文献出处】光电工程 ,OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,1997年S1期

【分类号】TN305.7
【被引频次】8
【下载频次】118

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