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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响

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【作者】 曾红军； 郭履容； 陈波； 庞霖；

【机构】 四川大学信息光学研究中心；

【摘要】 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...

【关键词】 湿法刻蚀； 光学元件； 息微； 全息记录； 红外光学； 表面性质； 自适应光学； 光互联； 郭履容； 潜像；
【基金】 “九五”国家科技攻关项目,中国科学院成都光电所微细加工国家重点实验室开放课题基金
  • 【文献出处】 大连理工大学学报 ,JOURNAL OF DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1997年S2期
  • 【分类号】TB877.3
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】99
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