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热氧化处理对铋薄膜光学性能的影响

Effects of Thermal Oxidation on Optical Properties Of Bi 2O 3 Films

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【作者】 倪星元吴广明吴永刚张慧琴金哲民

【Author】 Ni Xingyuan\ Wu Guangming\ Wu Yonggang\ Zhang Huiqin\ Jin Zheming Tongji University, Shanghai200092

【机构】 同济大学

【摘要】 对通过蒸发获得的金属铋薄膜经加热氧化处理并与直接蒸发氧化铋获得的薄膜比较和进行光学性能测量,发现都能获得β相氧化铋薄膜。但是由于热氧化与蒸发的过程或速率不同,出现化学计量偏离,薄膜结构和光学性能变化。热氧化不够或低速率蒸发形成薄膜富铋,出现无定型或其它相结构,光学吸收限变宽,移向低能处。过氧化则会使薄膜富氧,同样使结构变化,吸收限变宽而向高能方向移动。实验表明蒸发金属铋薄膜然后经350℃,3小时热氧化是比较合适的制备氧化铋薄膜的条件。

【Abstract】 β Bi 2O 3 films were prepared by thermal oxidizing bismuth film or direct evaporation of Bi 2O 3. The optical properties, structure and stoichiometry of the film wre related to evaporation rate and thermal oxidizing temperature. Our samples were prepared by thermal oxidizing bismuth films. The oxidizing temperature is 350℃, 3hr in air. The properties of films and preparation conditions were investigated in this paper.

  • 【文献出处】 材料科学与工程 ,MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,1997年03期
  • 【分类号】TN204
  • 【被引频次】2
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