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偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响
【摘要】 主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的TiN膜层的影响,运用扫描电子显微镜(SEM),X-射线衍射仪(XRD)和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴、针孔、膜的取向和临界载荷等性能。结果表明:低偏压下膜表面的针孔密度较小,高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明:在150～200V偏压下膜层的临界载荷最佳。
- 【文献出处】 表面技术 ,Surface Technology , 编辑部邮箱 ,1997年01期
- 【分类号】TG174.4
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