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磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术
【摘要】 利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中CF4＋O2的辐射谱、谱线成分及强度，分析了谱线强度与射频辐射功率、氧气含量的关系，并与没有磁场存在时的情况作了比较。
- 【文献出处】 真空科学与技术 , 编辑部邮箱 ,1996年05期
- 【分类号】TN305
- 【被引频次】1
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【摘要】 利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中CF4＋O2的辐射谱、谱线成分及强度，分析了谱线强度与射频辐射功率、氧气含量的关系，并与没有磁场存在时的情况作了比较。