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采用电子回旋共振微波等离子体增强的溅射沉积薄膜技术

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【摘要】 利用高等离子体密度、高电子温度和高离化率的ECR微波等离子体增强二极溅射、磁控溅射反应沉积金属氨化物薄膜。实验结果表明,ECR微波等离子体具有降低薄膜沉积温度,提高薄膜沉积速率和改善薄膜质量的作用。特别是采用基片施加脉冲负偏压的ECR微波等离子体源离子增强反应磁控溅射沉积技术,设备成本低,工艺方法简单,可获得与离子束增强沉积(IBAD)相近的对薄膜结构和特性的改性作用,可制备高质量金属氢化物薄膜。

【关键词】 等离子体溅射沉积薄膜
【基金】 国家自然科学基金
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】5
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