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10，6μmGe－Ag－Ni空心波导射频溅射镀膜的一种新方法
A NOVEL METHOD OF RF SPUTTERING FOR FABRICATION OF 10.6μm Ge-Ag-Ni HOLLOW WAVEGUIDE
【摘要】 该文提出一种射频溅射镀膜的新方法，讨论了该方法对小孔径１０．６μｍＧｅ－Ａｇ－Ｎｉ空心波导制作的意义，利用该方法已制成样品，同时给出并比较了几个不同孔径样品的光透射率．
【Abstract】 A novel method of RF sputtering is discribed. The usefulness forthe fabrication of the 10.6μm Ge-Ag-Ni hollow waveguide with a small diameterof the method is discussed. Some samples have been fabricated using the method andthe transmittance of the samples with different waveguide diameters is presented.
【关键词】 Ge－Ag－Ni空心波导；
10．6μm波导；
射频溅射；
【Key words】 Ge-Ag-Ni waveguide； 10.6μm waveguide； RF sputtering；
【Key words】 Ge-Ag-Ni waveguide； 10.6μm waveguide； RF sputtering；
【基金】 国防科工委和电科院资助
- 【文献出处】 应用科学学报 ,JOURNAL OF APPLIED SCIENCES , 编辑部邮箱 ,1996年04期
- 【分类号】O614.431
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