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半导体硅材料厂工艺设计中的污染控制技术

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【作者】 张重敏；

【机构】 北京有色冶金设计研究总院；

【摘要】 文章介绍了洁净技术与洁净室设计的主要内容，论述了洁净。艺设计与集成电路制造工艺微细化尺度趋势间的关系，着重介绍了工艺设计中的污染控制技术及当今世界实践趋势。

【关键词】 硅； 洁净技术； 污染控制； 设计；
  • 【文献出处】 有色冶炼 ,NON-FERROUS SMELTING , 编辑部邮箱 ,1996年05期
  • 【分类号】X76
  • 【被引频次】1
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