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用Li2B4O7晶体为基片的光刻腐蚀研究

Study of Photoetching on Li2B4O7 Crystal Substrate

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【作者】 周亚栋何先莉

【Author】 Zhou Yadong;He Xianli(Beijing Polytechnic College, Beijing, 100022)

【机构】 北京工业大学

【摘要】 介绍了以Li2B4O7晶体为声表面波器件基片材料的光刻腐蚀方法,对产生的几种主要缺陷进行了分析讨论.

【Abstract】 A method of photoetching on Li2B4O7 crystal substrate is reported in this paper,The main defects emerging in the photoetching process is also discussed.

【关键词】 Li2B4O7晶体声表面波光刻
【Key words】 lithium tetraborate crystalSAWphotoetching
【基金】 北京市自然科学基金
  • 【文献出处】 压电与声光 ,PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS , 编辑部邮箱 ,1996年01期
  • 【分类号】TN305.7
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】17
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