节点文献

集成铁电存储器──新型快速、抗辐照、非挥发性存储器件

Integrated Ferroelectric Memories──A New Type of Fast Access and Radiation Hard Nonvolatile Memories

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 许华平; 郑立荣; 陈逸清; 林成鲁; 邹世昌;

【Author】 Xu Huaping;Zheng Lirong;Chen Yiqing;LinChenglu and Zou Shichang(Shanghai Institute of Metallurgy,Chinese Academy of Sciences)

【机构】 中科院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室;

【摘要】 本文介绍了铁电存储器的原理,对非挥发性铁电存储的研究和开发情况作了综述。并就制约着铁电集成器件真正商业化的若干铁电薄膜材料物理方面关键问题作了分析。首先提出了在铁电集成器件工艺中还存在着综合优化问题。最后,对铁电存储器的未来作了预测。

【Abstract】 In this paper, some key physical issues of ferroelectric thin film materials,which have been a great obstacle to the commercialization of ferroclectric integrated devices,and the fundamental principle of ferroelectric memories have been analyzed.analyzed.The dynamicsituation of research and development for the nonvolntile ferroelectric random access memories (FRAM)has been reviewed.First,we emphasized that therestill exists comprehensive optimization in the integration processing before completely industrializing ferroelectric integrated devices.Then,we estimate the future exploitations of FRAM.

  • 【文献出处】 微电子学与计算机 ,MICROELECTRONICS & COMPUTER , 编辑部邮箱 ,1996年01期
  • 【分类号】TP333
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】277
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络