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Ee-BES-40A全自动电子束曝光机

Ee-BES-40A AUTOMATIC ELECTRON BEAM EXPOSURE MACHINE

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【作者】 张福安薛虹刘浩

【Author】 Zhang Fuan; Xie Hong; Liu Hao (Institute of Electrical Engineering, Academia Sinica,Beijing 100080)

【机构】 中科院电工研究所

【摘要】 Ee-BES-40光栅扫描电子束曝光机全部实现自动控制,为用户操作带来极大方便。本文简要论述该机的构成及调试中遇到的问题。重点论述真空自动化,送片机构的自动化,以及电子光柱调整的自动化。

【Abstract】 Full-automatic control is realized in Ee-BES-40A raster scanning electron beam exposure machine. It is convenient for user to operate the machine. In the paper,the machine constitution and some problems encountered during the adjustment is discussed.The automation of vacuum, substrate load system and adjustment of electron baem. column are discussed in detail here.

  • 【文献出处】 微细加工技术 ,MICROFABRICATION TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1996年03期
  • 【分类号】TN305.7
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