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渗硅合金化45钢化学气相沉积金刚石膜新方法

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【作者】 高志栋陈志清曾效舒梁吉魏秉庆吴德海

【机构】 清华大学

【摘要】 渗硅合金化45钢化学气相沉积金刚石膜新方法高志栋,陈志清,曾效舒,梁吉,魏秉庆,吴德海(清华大学)化学气相沉积(CVD)金刚石膜的基底通常使用单晶硅。在钢基底上沉积一层金刚石膜,利用其优异的抗磨、化学稳定、绝缘、导热性能好等优点,应用将十分广阔。由于...

  • 【文献出处】 金属热处理学报 ,TRANSACTIONS OF METAL HEAT TREATMENT , 编辑部邮箱 ,1996年03期
  • 【分类号】TG156.83
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】60
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