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模压全息衍射效率的分析
【摘要】 本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅,经历了电铸、模压转移到PET薄膜上,在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的,即深度浅的地方,其最后结果将更浅,甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的,故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀,经过电铸、模压后,进一步加重了这种不均匀性,使得模压片的衍射效率降低,解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。
【基金】 云南省教委基金
- 【文献出处】 光子学报 ,ACTA PHOTONICA SINECA , 编辑部邮箱 ,1996年07期
- 【分类号】TH741.6
- 【被引频次】8
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