节点文献
硅片抛光工艺技术研究
【摘要】 硅片抛光是IC生产中的重要工序。为提高硅片和IC产品的质量,本文系统地介绍了HE系列新型高效抛光剂的制备方法、性能结构、抛光表面质量以及速率等,并探讨了抛光硅片的工艺技术。该技术经国内外几家大型专业厂生产线的实际应用,其效果良好。
- 【文献出处】 电子与自动化 ,Electronics & Automation , 编辑部邮箱 ,1996年02期
- 【分类号】TN405
- 【被引频次】3
- 【下载频次】285
中国学术期刊网络出版总库
【摘要】 硅片抛光是IC生产中的重要工序。为提高硅片和IC产品的质量,本文系统地介绍了HE系列新型高效抛光剂的制备方法、性能结构、抛光表面质量以及速率等,并探讨了抛光硅片的工艺技术。该技术经国内外几家大型专业厂生产线的实际应用,其效果良好。