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反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析  
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【英文篇名】 X-ray Diffraction Analysis of Structures of ITOFilms Prepared by Magnetron Reactive Sputtering
【下载频次】 ★★☆
【作者】 茅昕辉; 陈国平;
【英文作者】 Mao Xinhui; Chen Guoping (Thin Films Institute; Southeast University; Nanjing; 210096);
【作者单位】 东南大学薄膜研究所;
【文献出处】 电子器件 , JOURNAL OF ELECTRON DEVICES, 编辑部邮箱 1996年 02期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  CJFD收录刊
【摘要】 本文报道了对反应磁控溅射技术沉积的ITO透明导电膜进行X射线衍射结构分析的结果,给出了不同条件下ITO膜的晶态结构和它与各种成膜工艺条件之间的关系
【英文摘要】 Abstract The Study of X-ray diffraction analysis of ITO transparent conductive films prepared by magnetron reactive sputtering was reported in this paper. The relationship between different crystalline structures and preparing conditions of ITO films were described in details.
【分类号】 O723:TN305.92
【正文快照】 反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析茅昕辉陈国平(东南大学薄膜研究所,南京,210096)摘要本文报道了对反应磁控溅射技术沉积的ITO透明导电膜进行X射线衍射结构分析的结果,给出了不同条件下ITO膜的晶态结构和它与各种成膜工艺条件之间的关系。EE?

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