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溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能
【摘要】 用射频溅射法在Ar＋N2混和气氛中制备了FeZrN膜，研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由（110）取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成，而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸，而且能抑制非磁性初生层的生长，改善了软磁性能的热稳定性。良好的软磁性能是跟细晶粒结构和适当的晶格形变密切相关的
- 【文献出处】 磁记录材料 ,Magnetic Recording Materiais , 编辑部邮箱 ,1996年04期
- 【分类号】TQ581
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